Письмо ректору

  Телефонный   справочник

    Электронная     почта



 1.png Министерство науки и высшего образования РФ
5-100.png Программа повышения конкурентоспособности
Противодействие коррупции
Наука и образование против террора
Диссертационные советы
Социальный навигатор
Оформление социальной студенческой карты
Study in Russia
NEVOD.png Уникальная научная установка НЕВОД
TEMP.png Турнир «ТеМП 2018»
50x75.png Международная олимпиада для студентов
Олимпиада «Я - профи»
eend_fond.png Эндаумент-фонд НИЯУ МИФИ




Институт лазерных и плазменных технологий (ЛаПлаз)



Развитие научно-исследовательской деятельности Института «ЛаПлаз» опирается на среднесрочное и долгосрочное прогнозирование мировых научных и технологических трендов и нацелено на развитие активной промышленной политики России реиндустриализации ее экономики с целью создания качественно новых видов продукции, обеспечивающих технологический паритет РФ с развитыми странами и активное влияние на развитие мирового рынка технологий и наукоемкой продукции. В этой связи лазерные, плазменные и радиационные технологии являются одними из наиболее перспективных направлений технологического развития России.

Основные направления исследований:

  • Исследования и разработки в области лазерных, плазменных, радиационных и пучковых технологий и их приложений в энергетике, промышленности, медицине и науках о жизни.
  • Исследования в области экологически безопасной энергетики на основе управляемого термоядерного синтеза.
  • Исследования и разработки в области мощных лазеров, физики взаимодействия сверхсильных оптических полей с веществом, аттосекундной оптики.
  • Исследования и разработки в области компактных (table-top) лазерно-плазменных ускорителей частиц для протонной терапии.
  • Исследования новых функциональных материалов с использованием синхротронного излучения и лазеров на свободных электронах.
  • Исследования и разработки в области оптической обработки информации, радиофотоники, оптической, лазерной и квантовой метрологии.

Современные вопросы, решаемые специалистами ЛаПлаз:

  • Новые функциональные градиентные материалы с использованием нанопорошков тугоплавких соединений и технологии прямого лазерного выращивания.
  • Экспериментальная лазерная установка килоджоульного уровня энергии по своим техническим параметрам и функционалу превосходящая мировые аналоги и обеспечивающая возможность проведения исследований взаимодействия сверхмощного лазерного излучения с веществом в ранее недоступном диапазоне параметров применительно к фундаментальным и прикладным задачам в области экстремального состояния вещества, физических принципов новых энергетических технологий, лабораторной астрофизики.
  • Фотонные аналого-цифровые системы с эффективным числом бит до 10 для систем обработки сигналов с полосой свыше 10 ГГц, что на порядок выше современных возможностей.
  • Портативные радиоизотопные источники питания на основе наноструктурированных тонкопленочных термоэлектриков с выходной мощностью до сотен микроватт и временем службы до десятков лет.
  • Энергоэффективные ускорители электронов прикладного назначения на энергию 2-10 МэВ для стерилизации, промышленной дефектоскопии, модификации материалов и метрологии.
  • Микромеханические устройства на основе аморфно-кристаллических сплавов с обратимым эффектом памяти формы для захвата и перемещения микрообъектов размером от 10 до 200 мкм, которые могут быть использованы в мироэлектронике, робототехнике, микробиологии, в диагностических и вживляемых микробиочипах и других интегрированных микроустройствах.
  • Высокопроизводительные магнетронные напылительные системы для прецизионного нанесения качественных покрытий. Комбинированные технологии сильноточного импульсного магнетронного распыления и магнетронного разряда с горячим катодом позволят осаждать плотные покрытия металлов и их соединений с ранее недоступными скоростями в десятки мкм/мин, для применений в областях микроэлектроники, машиностроения, медицины.
  • Плазменно-пучковые генераторы нового типа для мягкого травления и модифицирования гетеро и наноструктур. Возможность точного регулирования средней энергии потока ионов, воздействующих на обрабатываемую поверхность, в диапазоне 10–100 эВ обеспечит обработку поверхности (травление или осаждение пленок) с минимальной плотностью радиационных дефектов. Плазменно-пучковые генераторы обеспечивают высокую анизотропию потока ионов и процесса травления, превосходящие возможности современных промышленных технологий на базе ВЧ и СВЧ разрядов.

Высокая техновооруженность и наличие уникального оборудования позволяют уже сейчас широкий спектр научно-исследовательских задач в области критических технологий, имеющих большой инновационный потенциал:

  • лазерные технологии на основе энергоэффективных волоконных, дисковых и гибридных лазеров;
  • технологии исследования материалов для условий сверхвысоких температур и давлений (аэрокосмические, ядерные технологии);
  • технологии синтеза новых материалов на основе резонансного возбуждения атомов и молекул лазерным излучением, недоступные для других методов.
  • новые микро-нанотехнологии обработки материалов и создания элементов и устройств механотроники, электроники, медицины;
  • разработка технологии обработки лопаток газотурбинных двигателей и новых теплозащитных материалов;
  • новые лазерные методы модификации и обработки сверхпроводящих токонесущих слоев с целью обеспечения передачи электроэнергии без потерь;
  • высокоэффективные накопители энергии на основе новых технологий плазменно-лазерной модификации электродов суперконденсаторов;
  • компактные (table-top) лазерно-плазменные ускорители частиц для протонной терапии;
  • разработка радиационных технологий с использованием ускорителей;
  • разработка радиационных технологий с использованием мощных потоков СВЧ излучения.