Сделан новый шаг в борьбе с эрозией стенок термоядерных реакторов

В высокорейтинговом научном журнале Nuclear Materials and Energy вышла статья, соавтором которой является доцент Института ЛапЛаз НИЯУ МИФИ Дмитрий Синельников.

Вольфрамовый нанокластер (NTB) на поверхности вольфрама (фото получено на сканирующем электронном микроскопе)

Статья, написанная в соавторстве с японскими учеными из Нагойского университета, посвящена изучению свойств вольфрамовых наноструктурированных кластеров (nanostructural tendril bundles, NTB), которые образуются на внутренних стенках термоядерных реакторов с магнитным удержанием плазмы.

Полученные данные помогут повысить устойчивость стенок реакторов к эрозии и сделать работу реактора более стабильной. В ходе исследования авторы статьи изучили причины возникновения NTB, а также определили минимальные температуры, при которых вероятность возникновения электрических разрядов между кластером и стенкой реактора существенно снижается.

По словам Дмитрия Синельникова, научившись управлять ростом NTB-структур на разных материалах, можно найти им практическое применение в какой-то иной технологической сфере. Областью их применения в будущем может стать эмиссионная электроника, где они заменят более габаритные и менее энергоэффективные накальные катоды. Также результаты исследования помогут улучшить параметры работы термоядерных реакторов.